Определение глубины рельефного изображения в светочувствительной системе полупроводник – металл

Abstract

Предлагается способ, который может найти практическое применение в электронной промышленности, вычислительной технике, оптотехнике, литографии, косвенного определения глубины рельефного металлического изображения, образованного в светочувствительной системе полупроводник – металл – диэлектрик, основанный на измерении электрического сопротивления и линейных размеров (длины и ширины) металлического слоя.