Показать сокращенную информацию
Определение глубины рельефного изображения в светочувствительной системе полупроводник – металл
| dc.contributor.author | Костко, В. С. | |
| dc.date.accessioned | 2020-10-07T12:05:12Z | |
| dc.date.available | 2020-10-07T12:05:12Z | |
| dc.date.issued | 2008 | |
| dc.identifier.citation | Костко, В. С. Определение глубины рельефного изображения в светочувствительной системе полупроводник – металл / В. С. Костко // Веснік Брэсцкага універсітэта. Серыя прыродазнаўчых навук. Матэматыка. Фізіка. Хімія. Біялогія. Навукі аб зямлі. - 2008. - № 2 (31). - С. 45 - 48. | ru_RU |
| dc.identifier.issn | 1814–0971 | |
| dc.identifier.uri | http://rep.brsu.by:80/handle/123456789/2737 | |
| dc.description | The method which will help to find practical usage of indirect determination of the depth of relief metal picture, formed in photosensitive system of semiconductor-metal-dielectric, based on the measurement of electric resistance and linear sizes (length and width) of metal layer in electronic industry, computer engineering, optic techniques, lithography. | ru_RU |
| dc.description.abstract | Предлагается способ, который может найти практическое применение в электронной промышленности, вычислительной технике, оптотехнике, литографии, косвенного определения глубины рельефного металлического изображения, образованного в светочувствительной системе полупроводник – металл – диэлектрик, основанный на измерении электрического сопротивления и линейных размеров (длины и ширины) металлического слоя. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БрГУ имени А. С. Пушкина | ru_RU |
| dc.relation.ispartofseries | Серыя прыродазнаўчых навук. Матэматыка. Фізіка. Хімія. Біялогія. Навукі аб зямлі; | |
| dc.title | Определение глубины рельефного изображения в светочувствительной системе полупроводник – металл | ru_RU |
| dc.title.alternative | The Determination of Relief Picture Depth in Photosensitive System of Semiconductor-metal | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
