dc.contributor.author | Адамчук, Д. В. | |
dc.contributor.author | Костко, В. С. | |
dc.date.accessioned | 2020-09-30T07:19:10Z | |
dc.date.available | 2020-09-30T07:19:10Z | |
dc.date.issued | 2011 | |
dc.identifier.citation | Адамчук, Д. В. Диффузионные процессы в тонкопленочных структурах / Д. В. Адамчук, В. С. Костко // Веснік Брэсцкага універсітэта. Серыя 4. Фізіка. Матэматыка. – 2011. – № 1. – С. 5–16. | ru_RU |
dc.identifier.issn | 2218-0303 | |
dc.identifier.uri | http://rep.brsu.by:80/handle/123456789/2087 | |
dc.description.abstract | Приводятся результаты экспериментального анализа структур полупроводник-металл-диэлектрик (ПМД) методами рентгеновской фотоэлектронной (РФС) и оже-спектроскопии (ЭОС), теоретического описания диффузионных процессов, происходящих в тонкопленочных структурах ПМД, изготовленных последовательным термическим вакуумным напылением на диэлектрик тонких пленок металла (Сd) и полупроводника (SnI2). | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БрГУ имени А.С. Пушкина | ru_RU |
dc.relation.ispartofseries | Серыя 4. Фізіка. Матэматыка; | |
dc.title | ДИФФУЗИОННЫЕ ПРОЦЕССЫ В ТОНКОПЛЁНОЧНЫХ СТРУКТУРАХ | ru_RU |
dc.title.alternative | Diffusion Processes in Thin Film Structures | ru_RU |
dc.type | Article | ru_RU |