Показать сокращенную информацию

dc.contributor.authorАдамчук, Д. В.
dc.contributor.authorКостко, В. С.
dc.date.accessioned2020-09-30T07:19:10Z
dc.date.available2020-09-30T07:19:10Z
dc.date.issued2011
dc.identifier.citationАдамчук, Д. В. Диффузионные процессы в тонкопленочных структурах / Д. В. Адамчук, В. С. Костко // Веснік Брэсцкага універсітэта. Серыя 4. Фізіка. Матэматыка. – 2011. – № 1. – С. 5–16.ru_RU
dc.identifier.issn2218-0303
dc.identifier.urihttp://rep.brsu.by:80/handle/123456789/2087
dc.description.abstractПриводятся результаты экспериментального анализа структур полупроводник-металл-диэлектрик (ПМД) методами рентгеновской фотоэлектронной (РФС) и оже-спектроскопии (ЭОС), теоретического описания диффузионных процессов, происходящих в тонкопленочных структурах ПМД, изготовленных последовательным термическим вакуумным напылением на диэлектрик тонких пленок металла (Сd) и полупроводника (SnI2).ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБрГУ имени А.С. Пушкинаru_RU
dc.relation.ispartofseriesСерыя 4. Фізіка. Матэматыка;
dc.titleДИФФУЗИОННЫЕ ПРОЦЕССЫ В ТОНКОПЛЁНОЧНЫХ СТРУКТУРАХru_RU
dc.title.alternativeDiffusion Processes in Thin Film Structuresru_RU
dc.typeArticleru_RU


Файлы в этом документе

Thumbnail

Данный элемент включен в следующие коллекции

Показать сокращенную информацию